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一方面，古电许多课题组已经使用abinitio密度泛函理论(DFT)来研究吸附的原子和分子与TMDs的相互作用。吸附的原子和分子在TMD中是一类有前景的杂质，力集因为它们倾向于仅仅微弱地扰动TMD衬底的原子结构，力集从而限制了可能由杂质散射或俘获导致的载流子迁移率的退化。

文献链接：团用Tuningelectronicpropertiesoftransition-metaldichalcogenidesviadefectcharge,(ScientificReports,2018,DOI:10.1038/s41598-018-31941-1)本文由材料人计算组Z.Chen供稿，团用材料牛整理编辑。电负对TMDs上带电吸附物性质的详细理论理解对于新器件的合理设计很重要。在实际条件下，荷侧缺陷对器件的性能起着至关重要的作用。

监测图4.振荡模式(a–h)杂质电荷Q=+0.3e的束缚杂质态的平方波函数。类似于传统的块体半导体，新突具有浅施主或受主状态的杂质可以用于通过缺陷工程控制TMDs中的载流子浓度。

然而，内蒙能力abinitio计算在可以考虑的系统的尺寸方面受到限制(通常包含多达几百或几千个原子)，内蒙能力这些系统太小，无法描述浅缺陷状态的特性，这些浅缺陷状态可以延伸到100或更多，正如最近使用扫描隧道光谱(STS)观察到的石墨烯中的库仑杂质另一方面，连续电子结构方法，如石墨烯的Dirac理论或体半导体的有效质量理论，可以描述扩展杂质态的行为，但需要来自实验或abinitio计算的参数，如费米速度、有效质量，更重要的是，缺陷势通常被主体材料的电子屏蔽。

【图文导读】图1.屏蔽电势与未屏蔽的库仑电势(红色虚线)相比，古电强度Z=1(蓝色实线)的位于MoS2中Mo原子上方d = 2 Å的带电原子的RPA屏蔽电势。Figure4(a–f)inoperandoUV-visspectradetectedduringthefirstdischargeofaLi–Sbattery(a)thebatteryunitwithasealedglasswindowforinoperandoUV-visset-up.(b)Photographsofsixdifferentcatholytesolutions;(c)thecollecteddischargevoltageswereusedfortheinsituUV-vismode;(d)thecorrespondingUV-visspectrafirst-orderderivativecurvesofdifferentstoichiometriccompounds;thecorrespondingUV-visspectrafirst-orderderivativecurvesof(e)rGO/Sand(f)GSH/SelectrodesatC/3,respectively.理论计算分析随着能源材料的大力发展，力集计算材料科学如密度泛函理论计算，力集分子动力学模拟等领域的计算运用也得到了大幅度的提升，如今已经成为原子尺度上材料计算模拟的重要基础和核心技术，为新材料的研发提供扎实的理论分析基础。

原位XRD技术是当前储能领域研究中重要的分析手段，团用它不仅可排除外界因素对电极材料产生的影响，团用提高数据的真实性和可靠性，还可对电极材料的电化学过程进行实时监测，在电化学反应的实时过程中针对其结构和组分发生的变化进行表征，从而可以有更明确的对体系的整体反应进行分析和处理，并揭示其本征反应机制。此外，电负结合各种研究手段，与多学科领域相结合、相互佐证给出完美的实验证据来证明自己的观点更显得尤为重要。

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